苹果在实现真全面屏的过程中，面临的最大挑战之一是如何将Face ID技术屏下化。Face ID使用深感摄像头投射和分析大量的点阵数据，来捕捉准确的人脸信息。为了实现这一目标，系统中的红外摄像头和点阵投影器等关键组件目前无法完全隐藏在屏幕下，因此苹果不得不妥协，采用药丸屏方案来解决这个问题。

    不过，最近苹果获得了一项关于屏下Face ID的专利，成功解决了这一技术难题。该专利的核心在于提高红外光的透光率。尽管红外光能穿透显示屏，但由于其透光率较低，将Face ID组件放在屏幕下方会导致人脸识别过程变慢且安全性下降。因此，苹果在这项专利中提出了创新的解决方案。

    苹果的解决方案通过移除一些子像素来让红外光顺利穿过OLED屏幕。已知每个显示器的像素由红、绿、蓝三种子像素组成，而苹果通过去除相邻子像素中相同颜色的部分，让红外光能够顺利透过屏幕。这些被去除的子像素不会被用户肉眼察觉，因为苹果采用了颜色混合技术，利用周围的像素来补偿缺失的部分，从而确保显示效果的一致性。

    这一技术方案预计最早将在2026年发布的iPhone 18系列上得到应用，届时iPhone 18将采用单挖孔屏设计，彻底告别现有的药丸屏形态，进一步推动苹果向真正的全面屏方向迈进。